在材料表面處理領域，離子濺射儀確實憑借高精度、低溫性圈粉不少，但作為天天跟設備打交道的 “老玩家”，微儀真空小編得跟大家掏掏心窩子 —— 實際操作中，這技術并非 “萬能神藥”，處理后可能埋下的幾個缺點，往往會直接影響材料性能，甚至讓前期的工藝投入打水漂。很多人選離子…
日期：2025-06-01
離子濺射儀本質是磁控濺射 PVD 技術的具象化設備，核心是通過 “磁場約束電子 + 離子轟擊靶材” 的協同作用，實現基材表面的高精度鍍膜。很多人覺得原理抽象，其實拆解成實際設備的運作步驟就很容易理解：首先，設備會將鍍膜腔抽到 10?3-10??Pa 的高真空環境 —— 這一步是為了減…
日期：2025-05-23在鍍膜領域，氧化物濺射（比如鍍 ITO、ZnO、Al?O?等）是做透明導電膜、絕緣膜的常用工藝，但比起金屬濺射，它的穩定性要難控制得多 —— 經常出現 “同批次樣品，前幾片鍍層透光率達標，后面突然變渾濁”“上午鍍的膜電阻合格，下午就偏高” 的情況。作為天天跟鍍膜設備打交道的微…
日期：2025-04-20
在高真空工廠待過的人都知道，車間里那些連接著巨大工作腔的金屬管道和嗡嗡作響的機組，就是負責 “抽空氣” 的泵送系統。外行人看覺得這活兒簡單 —— 不就是把腔里的空氣抽出去嘛？但只有天天跟這套系統打交道的師傅才清楚，從大氣壓抽到 10??Pa 甚至更高的真空度，整個過程就像…
日期：2025-04-20
在實驗室里做材料鍍膜，最讓人鬧心的莫過于實驗結束后，離子濺射儀的腔室蓋子死活打不開 —— 手擰得發酸，蓋子紋絲不動，里面的樣品取不出來，后續實驗全被耽誤。作為天天幫實驗室處理設備故障的微儀真空小編，每年都要接到幾十起 “蓋子打不開” 的咨詢，其實這問題大多不是設備壞…
日期：2025-04-20
在離子濺射鍍膜車間待久了，經常會聽到師傅們抱怨：“這靶材又中毒了，鍍出來的膜要么顏色不對，要么性能差，白瞎了半天功夫！” 對剛接觸鍍膜的人來說，“靶材中毒” 聽起來像個玄乎的專業術語，但其實它就是反應濺射工藝中常見的 “故障”—— 今天就用咱們微儀真空日常碰到的案例…
日期：2025-04-20
CVD（Chemical Vapor Deposition，化學氣相沉積）是一種通過化學反應在基材表面生成固態薄膜的鍍膜技術，核心是讓含有薄膜元素的氣態前驅體，在特定溫度、壓力等條件下，通過分解、化合等化學反應，在基材表面沉積形成均勻、致密的鍍層。從實際生產場景來看，CVD 的工藝邏輯很容易理…
日期：2025-04-20
在離子濺射儀使用中，靶材是核心耗材 —— 很多科研人員和工廠師傅常問：“靶材看著還能用，到底什么時候該換？”“換靶材時沒注意步驟，裝完后抽不了真空怎么辦？” 作為天天幫客戶處理靶材問題的微儀真空小編，今天就從 “判斷信號” 和 “更換步驟” 兩方面，給大家講透離子濺射…
日期：2025-04-20
在真空加工中，水蒸氣是一個常見的問題。水分子因其高度極性，容易粘附在金屬表面，尤其是在不銹鋼的氧化鉻保護層上。這些水分子必須從真空系統中排出，否則會延長達到所需真空度的時間。水蒸氣的挑戰水蒸氣的排除不僅依賴于泵的容量，還與水分子從金屬表面的解吸動力學有關。因此…
日期：2025-04-20這個簡短的教程旨在幫助讀者了解哪些材料可以通過高真空沉積工藝進行處理。對于第一次接觸這種工藝的人來說，這個問題非常重要，特別是如果他們想將其應用于自己的產品。 真空沉積工藝的可行性在考慮將真空沉積工藝應用于特定產品時，需要分析多個方面。例如：- 技術目標是什么？…
日期：2025-04-20O形圈是高真空系統中的關鍵組件。它們是圓形截面的彈性材料密封件，通常安裝在特定的閥座中，在使用過程中被壓縮，以形成密封。 O形圈的工作原理O形圈（也稱為OR）是一種常見的墊圈形式，適用于靜態和動態條件。對于需要在壓力下密封的應用，如果O形圈選擇得當，且閥座的尺寸和構造…
日期：2025-04-20在高真空工廠中，泵送系統用于去除工作腔中的空氣。這聽起來簡單，但實際上過程更復雜。泵送過程最開始，泵會去除腔室內的空氣，主要成分包括氮氣、氧氣和水蒸氣。然而，隨著時間推移，泵管理的氣體逐漸被來自腔室表面的脫氣氣體取代。脫氣是指表面揮發性物質釋放的氣體流動，其中…
日期：2025-04-20擴散泵是一種靜態裝置，廣泛用于需要1e-4到1e-9 mbar真空度的系統。它們是第一種能夠在分子真空狀態下產生泵送作用的設備。 工作原理擴散泵的工作依賴于適當定向的蒸汽射流與氣體分子之間的動量傳遞。這種泵也被稱為“氣體噴射泵”，因為氣體無法在蒸汽流動方向上擴散。泵中的蒸汽…
日期：2025-04-20隨著工業對高質量功能薄膜的需求不斷增長，磁控濺射技術在過去20年迅速發展，逐漸成為沉積工業涂層的首選方法。自1970年代初期傳統磁控管的開發以來，這項技術經歷了多次重要進步，包括不平衡磁控管和脈沖磁控濺射（PMS）的引入。磁控濺射原理傳統的磁控濺射過程依賴高能離子轟擊靶…
日期：2025-04-20“真空沉積技術”是指在高真空環境中，利用各種工藝在基板上沉積多種成分的薄膜。這個過程涉及三個關鍵要素：源、傳輸過程和襯底。薄膜的特性受到多種參數的影響，如沉積溫度、基板性質、真空室內殘余氣體成分及沉積速率。物理氣相沉積（PVD）PVD技術涵蓋多種方法，主要包括：· 熱…
日期：2025-04-20高真空系統中的顆粒密度在高真空環境中，通常可以達到10^-6到10^-8 mbar的壓力。為了理解這些條件下的顆粒數，我們可以考慮理想氣體的摩爾體積。在1 cm3的體積中，通常情況下（如在大氣壓下），存在約2.7 × 10^19個氣體顆粒。 顆粒密度計算大氣壓下： 1 cm3體積中約有2.7 × 10^19個…
日期：2025-04-20射頻濺射是一種在1960年代開始發展的技術，用于在各種材料上制作薄膜，包括導體和絕緣體。到了1970年代，這種技術逐漸流行。直流濺射是使用金屬和半導體靶材的有效方法，但當靶材是絕緣體時，轟擊靶材的離子會使其帶電，導致靶材電位上升，進而阻止離子繼續撞擊。 “射頻”指的是無…
日期：2025-04-20在真空處理機器和科學儀器中，腔室通常由不銹鋼制成。這是因為不銹鋼具有許多優點，使其特別適合這些環境。 不銹鋼的優勢： 1. 耐腐蝕性：不銹鋼含有鉻，能在表面形成保護性的鈍化層，防止氧化和生銹。2. 高溫耐受性：在高溫下也能保持穩定性，適合熱處理和清潔操作。3. 焊接和加工…
日期：2025-04-20真空加工需要在特定的無空氣環境中進行，這要求使用復雜且昂貴的設備。為什么會有這種需求呢？主要有兩個原因。 1. 空氣的成分 空氣主要由氮氣（約78%）、氧氣（約21%）和氬氣（約1%）組成。其中，氬氣是一種惰性氣體，不會自發反應，常用于焊接等工藝中提供保護氣氛。而氮氣和氧氣…
日期：2025-04-20鋁合金電化學拋光鋁合金的電化學拋光又稱電解拋光，其原理與化學拋光相似，都是通過選擇性溶解鋁材表面微小凸出部分從而使鋁材表面變得平整光滑。鋁材作為陽極浸入到配制好的電解溶液中，以耐腐蝕而且導電性能良好的材料作為陰極，根據電化學尖端放電,原理，通電后鋁材表面微小凸出…
日期：2025-04-20
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