RIE-801型反應離子刻蝕機
RIE-801反應離子刻蝕機為我司針對大學、研究院所、企業研發機構等用戶的科研及教學需求定點開發的刻蝕設備，同時設備也支持小批量產品生產。 設備支持最大φ8英寸樣片的反應離子刻蝕。
設備簡介：
RIE-801反應離子刻蝕機為我司針對大學、研究院所、企業研發機構等用戶的科研及教學需求定點開發的刻蝕設備，同時設備也支持小批量產品生產。
設備支持最大φ8英寸樣片的反應離子刻蝕。
刻蝕材料: 包括并不限于單晶硅、多晶硅、Si02、Si3N4、T、W、聚合物等。
★刻蝕腔體: 高真空系統
★刻蝕不均勾性:+3%-+6%
★刻蝕速率:0.1-4um/min(視具體材料與工藝)★工作臺:可升降，包含水冷
★電源配置:下電極偏壓，包含自動匹配
★氣路數量與種類:4路耐氟基腐蝕氣路 或 用戶選配
★He冷背吹系統:可選配
★終點檢測控制:可選配質譜儀
★操作模式:全自動+半自動控制
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