設(shè)備簡(jiǎn)介：

RIE-601反應(yīng)離子刻蝕機(jī)為我司針對(duì)大學(xué)、研究院所、企業(yè)研發(fā)機(jī)構(gòu)等用戶的科研及教學(xué)需求定點(diǎn)開發(fā)的刻蝕設(shè)備，同時(shí)設(shè)備也支持小批量產(chǎn)品生產(chǎn)。

設(shè)備配備一臺(tái)射頻偏壓電源，置于下電極，包含自動(dòng)匹配器。射頻偏壓電源將工藝氣體離化成等離子態(tài)，并使等離子體向下刻蝕樣片。

設(shè)備上蓋配有噴淋式勻氣裝置，將工藝氣體均勻注入到腔體中。

設(shè)備技術(shù)參數(shù)：

真空室尺寸：Φ370mm×H300mm

整機(jī)尺寸：L1300mm×W900mm×H1500mm

整機(jī)重量：650Kg

樣片大小及數(shù)量：φ6英寸樣片1片或散片多片

極限真空度：≤2×10-4Pa

系統(tǒng)漏率：≤5×10-7Pa·L/s

靜態(tài)升壓：系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，真空度≤5Pa

抽氣速率：系統(tǒng)充干燥N2解除真空，短時(shí)暴露大氣后抽氣至5×10-3Pa≤15min

                 系統(tǒng)充干燥N2解除真空，短時(shí)暴露大氣后抽氣至9×10-4Pa≤30min

刻蝕不均勻性：≤±5％（φ6英寸范圍內(nèi)）