1. 薄膜質(zhì)量高? 高致密性：高能濺射原子沉積的薄膜密度 > 98% 理論值，針孔率 < 0.1 個(gè) /cm2，抗腐蝕性能提升 30%。這種高致密性的薄膜結(jié)構(gòu)能夠有效阻擋外界物質(zhì)的侵入，提高半導(dǎo)體器件的穩(wěn)定性和可靠性。? 納米級(jí)精度：通過石英晶振實(shí)時(shí)監(jiān)測沉積速率，精度達(dá) ±0.3nm/s；基片臺(tái)支…
日期：2025-07-31
磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于物理氣相沉積（PVD）的一種。在真空環(huán)境下，向腔室內(nèi)通入惰性氣體（如氬氣），在電場作用下，氬氣被電離產(chǎn)生等離子體。此時(shí)，在靶材表面施加磁場，與電場形成正交電磁場。氬離子在電場加速下高速轟擊靶材表面，靶材原子或分子在離子的撞擊下獲得足夠能量，脫離…
日期：2025-04-20
磁控濺射鍍膜機(jī)(高真空磁控濺射儀）是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。高真空磁控濺射儀（科研型）Circular Sputter系列是我司科研類高真空…
日期：2025-04-20
深圳微儀真空技術(shù)公司磁控濺射鍍膜技術(shù)，10年專注真空鍍膜技術(shù)，磁控濺射鍍膜生產(chǎn)廠家微儀磁控濺射鍍膜技術(shù)作為一種高效的物理氣相沉積（PVD）方法，已廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)薄膜、裝飾和防護(hù)涂層等領(lǐng)域。與傳統(tǒng)濺射技術(shù)相比，磁控濺射通過引入磁場，顯著提高了濺射效率和膜層質(zhì)量…
日期：2025-04-20
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